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  半導體製程及原理
  
  半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等)，而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水：NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水：洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
  
  2024-04-15
  
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  曝光原理與曝光機 - 中原大學機械工程學系
  
  曝光原理曝光製程曝光光源系統手動曝光機自動曝光機 ... 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700 Mobile: 0939-268-725 cckao@csun.com.tw V2.1 2007/4/10 課程綱要多層板曝光製程內層曝光顯影蝕刻內層壓膜曝光設備外層曝光電鍍蝕刻外層曝光 ...
  
  2024-04-16
  
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精密塗佈技術介紹1 - 豆丁网 - docin.com豆丁网-分享文档发现价值

日期：2024-04-14

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曝光原理與曝光機 - 中原大學機械工程學系

日期：2024-04-15

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光阻塗佈機自動塗佈機

日期：2024-04-13

乙揚精研：設計生產客戶需求的專業塗佈機、治具、檢具及多樣材質的機械零件加工製作。-English- -繁體中文- -日本語- . SPC-101 (510mm*550mm*550mm) 產品特色： ※ 連續可變的速度範圍 0-8,000 ......

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TecLin Corp., Ltd. : Technology Value Linking全自動光阻塗佈/顯影機 | TecLin Corp., Ltd. :: Technology Value Li

日期：2024-04-12

Teclin Co., Ltd. 穎強科技股份有限公司 ... 廠牌：SVS MSX1000 是針對光電、半導體製程所設計的模組化塗佈系統，適合於2”~6”的晶片，並可應用在ASICS、LED、OLED、MEMS 等製程，並可以因應不同光阻塗佈及顯影製程提供不同設計，在馬達轉速及加速，烤 ......

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