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![科毅科技高性能塗佈機製造 - DC馬達塗佈機]()
opto-equipment.etrading.com.tw科毅提供之塗佈機特性為穩定、均勻確保黃光製程之良率，本公司之塗佈機並採用高性能的伺服及DC馬達，可達到精準及可靠的控制。瀏覽：400 -
![曝光機、塗佈機、光罩、平行光源、高靈敏CCD相機等光電設備 - 科毅科技]()
opto-equipment.etrading.com.tw科毅提供國內各大光電廠商優良之曝光機、塗佈機、光罩、平行光源、高靈敏CCD相機等光電儀器設備。並設有設有class 1000等級無塵室，提供光罩製作及製程設備測試之更佳 ...瀏覽：718
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TecLin Corp., Ltd. : Technology Value Linking全自動光阻塗佈/顯影機 | TecLin Corp., Ltd. :: Technology Value Li
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Teclin Co., Ltd. 穎強科技股份有限公司 ... 廠牌：SVS MSX1000 是針對光電、半導體製程所設計的模組化塗佈系統，適合於2”~6”的晶片，並可應用在ASICS、LED、OLED、MEMS 等製程，並可以因應不同光阻塗佈及顯影製程提供不同設計，在馬達轉速及加速，烤 ......
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微影技術是圖案化製程中將設計好的圖案從光罩或倍縮光罩上轉印到晶圓表面的光阻上時所使用的技術; 半導體產業則是在1950年採用微影技術來製造電晶體和積體電路 .... 半導體製程技術導論—羅正忠; www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Book.htm ......
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日期：2024-04-19
科毅提供國內各大光電廠商優良之曝光機、塗佈機、光罩、平行光源、高靈敏CCD相機等光電儀器設備。並設有設有class 1000等級無塵室，提供光罩製作及製程設備測試之更佳 ......
![[技術專文] TFT-LCD光阻劑技術發展趨勢 - 《化合物半導體·光電技術》雜誌](https://www.iarticlesnet.com/pub/img/site/s_09.jpeg)
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顏以明、張雍政／台灣安智電子材料股份有限公司 無論半導體製程或TFT-LCD製程，黃光微影(lithography)可以說最關鍵的技術，而微影製程中，又以光阻劑為其中最重要的化學材料。光阻劑配合塗佈與曝光機台，才可以將半導...
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日期：2024-04-23
本文討論噴霧式光阻塗佈(Spray Coating)的多種應用，此項技術最初是發展用來處理一些對光阻塗佈最有挑戰性的基材表面，外形及斜面的光阻塗佈。和標準光阻塗佈製程相比它也可顯著的減少光阻用量且保持良好的塗佈均勻性。他也被發現可用於圓形基材及 ......
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日期：2024-04-24
光阻為高感光材料用於塗佈在表面形成結構性塗層，可用於多種產業製程。例如：微影和光罩製程，多數用於製造積體電路和平面顯示器。...
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日期：2024-04-19
中文名稱 光阻塗佈機 英文名稱 Photo Resist Spinner 儀器廠牌型號 Synrex 擎邦 1-PM101D-R790 購置年限 1992年12月16日 放置地點 固態電子系統大樓 1樓120實驗室 (TEL：55609) 機台狀況 重要規格 1.可分二段轉速控制...
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日期：2024-04-24
BARC 專門針對曝光系統設計的折射率 ，可確保最小光反射率和最大的擺幅抑制率 以光阻相容溶劑系統製成的配方，可改良製程能力 、 均勻塗佈性絕佳並簡化洗邊劑 可廣泛運用在各光波波長的聚合物成分，...
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