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日期:2024-04-15
Title: PECVD電漿Arcing之改善研究 On the reduction of the Plasma Arcing in a PECVD Chamber Authors: 彭元宗 ......
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日期:2024-04-13
研究,探討Ar 電漿與SiH4、H2 工作氣體對於製程腔 體內部流場及微晶矽薄膜沉積特性的影響。模擬部 ... 濃度分佈之影響。一般 ......
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日期:2024-04-16
近日 研究發現,對半導體材料施以 電漿 表面改質,可以大幅 改善 其光電特性表面 改質主要是利用惰性氣體原子的碰撞,會 ......
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日期:2024-04-12
高頻 電漿CVD不同功率對非晶矽膜及薄膜太陽能電池之特性分析 沈炤德 1王朝俊 王勝進 *連水養1, 2 陳家富 1 明道大學材料科學與工程學系 2 明道大學太陽光電 ......
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日期:2024-04-11
委託 研究計畫 研究報告 電漿 系統監控模擬分析 研究 Study on the analytic simulation of plasma system ......
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日期:2024-04-16
PECVD美國專利分析與地圖製作 金屬工業 研究 發展中心 中華民國98年10月 目 錄 一、前言 1 二、內容綱要 2 三、專利分析的概念 ... CCP ......
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日期:2024-04-12
本課程主要以COMSOL Multiphysics 4.3b內的 電漿模組(Plasma module)來模擬 電漿輔助化學氣相沉積( PECVD ......
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日期:2024-04-16
高頻 電漿 CVD 不同功率對非晶矽膜及薄膜太陽能電池之特性分析 沈炤德 1 王朝俊 1 王勝進 1 *連水養 1, 2 陳家富 1 明道大學材料科學與工程學系 2 明道大學太陽光電 ......